半导体含砷废气处理方法（半导体含砷废气如何治理）
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半导体行业在芯片制程工艺中，因其不间断使用有机溶剂和酸溶液直接产生了大量的有毒有害的废气，且需经过废气处理达标后才能高空排放。本文将介绍半导体含砷废气处理方法。
半导体含砷废气来源
含砷废气来源半导体掺杂制程工序，废气包括砷烷、磷烷和硼烷。
半导体含砷废气处理方法
处理含砷废气常用设备为砷磷烷吸附塔。半导体行业的含砷废气从机台端单独收集，形成独立的系统，砷烷磷烷的处理系统主要分为两个部分，d一阶段为Local Scrubber，即本地的干式吸附装置，采用的原理也是化学吸附，目前随着国j及各地区环保排放标准日驱严格，在含砷系统的Local Scrubber的基础上汇集到屋面时会在Central端再次进行干式吸附，使用的设备称为砷磷烷吸附塔，一般砷磷烷吸附塔也会配置一用一备模式，吸附后通过末端风机负压达标排放。
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砷磷烷吸附塔利用化学反应、复分解反应等基本原理，与各种废气产生化学反应，生成稳定的无毒无害的化合物或者复合物，可直接用于修路、垃圾填埋等，不会产生二次污染。
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